มลพิษเล็กๆ บนแผงวงจรอิเล็กทรอนิกส์จะลดประสิทธิภาพทางอิเล็กทรอนิกส์ ส่งผลให้แผงวงจรอิเล็กทรอนิกส์เสียหาย ด้วยการพัฒนาทางวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยี เซมิคอนดักเตอร์ อุปกรณ์ไมโครอิเล็กทรอนิกส์เริ่มมีขนาดเล็กลงและจำเป็นต้องทำความสะอาดอนุภาคขนาดเล็ก ความยากลำบากในการทำความสะอาดมีขนาดใหญ่มาก การล้างน้ำแบบดั้งเดิมและการทำความสะอาดอัลตราโซนิกมีข้อบกพร่องของตัวเอง การทำความสะอาดด้วยเลเซอร์นำมาซึ่งความหวังใหม่ กลายเป็นสิ่งที่ดีที่สุด วิธีการทำความสะอาด
ฟิล์มโพลีอิไมด์เป็นวัสดุที่สำคัญในชิ้นส่วนอิเล็กทรอนิกส์ มันเป็นวัสดุอิเล็กทริกของโครงสร้างลิงค์ภายในฟิล์มห่อหุ้มหลายชั้นของชิ้นส่วนอิเล็กทรอนิกส์ความเร็วสูงและความหนาแน่นสูง แต่มักจะถูกปกคลุมไปด้วยมลพิษที่เป็นอนุภาคบางชนิด รวมถึงอนุภาคไทเทเนียม อนุภาคโครเมียม อนุภาคทังสเตน อนุภาคนิกเกิล ฯลฯ จำเป็นต้องทำความสะอาดสารมลพิษเหล่านี้เพื่อให้ฟิล์มโพลีอิไมด์ทำงานได้ตามปกติ บริษัทเครื่องขจัดตะกรันด้วยเลเซอร์ Dunlei ได้ทำการทดลอง ทำความสะอาดฟิล์มโพลีอิไมด์ การใช้เลเซอร์เอ็กไซเมอร์ เลือกความยาวคลื่นของเลเซอร์ 235 นาโนเมตร พัลส์ 20ns ความหนาแน่นของพลังงานเลเซอร์ 80mj/cm2 โดยใช้โหมดการทำงานของหุ่นยนต์อัตโนมัติ ประสิทธิภาพการทำความสะอาดคือ สูงมาก หลังจากทำความสะอาดพบว่าผลการทำความสะอาดเป็นเลิศ การใช้สเปกโตรมิเตอร์ตรวจพบอัตราส่วนการกำจัดมลพิษที่ 95 เปอร์เซ็นต์ขึ้นไป ได้ถึงมาตรฐานข้อกำหนด ประสิทธิภาพการทำความสะอาดอยู่ในระดับสูง “ทำไมไม่กำจัดการปนเปื้อน 100 เปอร์เซ็นต์ ทำไมยังเหลืออีก 5 เปอร์เซ็นต์จึงกำจัดไม่ได้?” “จริงอยู่ที่ว่ายังมีอีก 5 เปอร์เซ็นต์ที่ยังไม่ถูกกำจัดออกไป แต่ก็ไม่ได้หมายความว่าไม่สามารถกำจัดออกได้ สาเหตุหลักอยู่ที่เวลาและประสิทธิภาพในการชำระล้างการปนเปื้อนอย่างสมบูรณ์ของเวลา 50 เปอร์เซ็นต์ของเวลาสามารถ จะถูกลบออกร้อยละ 95 ของเวลา และอีกร้อยละ 50 ของเวลาที่จะลบส่วนที่เหลือร้อยละ 5 ของเวลาในการทำงานจริงของประสิทธิภาพการทำความสะอาดและค่าใช้จ่ายในการทำความสะอาดมีความสำคัญมากขึ้น " มันแสดงให้เห็นว่ายังคงมีช่องว่างบางอย่างระหว่างทฤษฎีและการปฏิบัติ และในการประยุกต์ในทางปฏิบัติ ความสมดุลที่ละเอียดอ่อนระหว่างสามประการนี้เสมอ ได้แก่ ประสิทธิภาพ ประสิทธิผล และความคุ้มค่า โดยทั่วไปแล้ว ชิ้นส่วนอิเล็กทรอนิกส์ทั่วไปสามารถขจัดมลพิษได้ 95 เปอร์เซ็นต์ ซึ่งถือเป็นผลการทำความสะอาดที่ยอดเยี่ยม
การทำความสะอาดด้วยเลเซอร์ในชิ้นส่วนอิเล็กทรอนิกส์มีการใช้งานมากมาย เช่น การทำความสะอาดแผงวงจรอิเล็กทรอนิกส์ การทำความสะอาดซิลิคอน การทำความสะอาดวงจรรวม การทำความสะอาดวงจรแบบยืดหยุ่น การทำความสะอาดอุปกรณ์ออปโตอิเล็กทรอนิกส์ เป็นต้น วัสดุเหล่านี้มีการพัฒนาทางวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยี การบูรณาการ ปักหมุดเพิ่มเติม และ หมุดมากขึ้น รูเริ่มเล็กลงเรื่อยๆ วิธีการทำความสะอาดแบบเดิมๆ ทำงานยาก การทำความสะอาดด้วยเลเซอร์เนื่องจากมีความแม่นยำสูง ง่ายต่อการดำเนินการโดยอัตโนมัติ สามารถปรับพารามิเตอร์ได้ การทำความสะอาดด้วยเลเซอร์เนื่องจากมีความแม่นยำสูง ง่ายต่อการดำเนินการโดยอัตโนมัติ พารามิเตอร์ที่ปรับได้ ประสิทธิภาพการทำความสะอาด และข้อดีอื่นๆ การกำจัดฝุ่น จาระบี ออกไซด์ และอนุภาคอื่นๆ บนพื้นผิวของชิ้นส่วนอิเล็กทรอนิกส์อย่างมีประสิทธิภาพ ช่วยเพิ่มความทนทานของชิ้นส่วนอิเล็กทรอนิกส์ได้อย่างมีประสิทธิภาพ การทำความสะอาดด้วยเลเซอร์สำหรับอุตสาหกรรมไมโครอิเล็กทรอนิกส์ในขนาดอุปกรณ์มีขนาดเล็ก อนุภาคละเอียดไม่ทำความสะอาดง่าย สถานการณ์ให้เทคโนโลยีที่มีประสิทธิภาพและเชื่อถือได้ ในเวลาเดียวกัน การทำความสะอาดด้วยเลเซอร์ไม่มีการสึกหรอและการกัดกร่อนของวัสดุพื้นผิว ซึ่งสอดคล้องกับข้อกำหนดด้านสิ่งแวดล้อม สามารถทำงานได้ในพื้นที่แคบ ซึ่งกระบวนการทำความสะอาดอื่น ๆ ไม่สามารถเปรียบเทียบได้
การทำความสะอาดด้วยเลเซอร์เป็นไปตามข้อกำหนดของการปกป้องสิ่งแวดล้อม ซึ่งสอดคล้องกับความต้องการในการพัฒนาที่ยั่งยืน โดยต้นทุนการทำความสะอาดด้วยเลเซอร์เริ่มลดลงเรื่อยๆ การทำความสะอาดด้วยเลเซอร์ของชิ้นส่วนอิเล็กทรอนิกส์ได้รับการยอมรับจากองค์กรต่างๆ มากขึ้น ก่อนปี 2559 ค่าใช้จ่ายในการทำความสะอาดชิ้นส่วนอิเล็กทรอนิกส์ด้วยเลเซอร์เป็น 20 เท่าของต้นทุนการล้างด้วยน้ำและการทำความสะอาดสารเคมีแบบดั้งเดิม ด้วยการพัฒนาเทคโนโลยีการทำความสะอาดด้วยเลเซอร์และอุปกรณ์ทำความสะอาดด้วยเลเซอร์ในช่วงไม่กี่ปีที่ผ่านมาและการลดราคาลงอย่างมาก ค่าใช้จ่ายในการทำความสะอาดตอนนี้ปิดแล้ว สู่ต้นทุนดั้งเดิม
