เมื่อเร็วๆ นี้ Weina Han นักวิชาการ Jiang Lan และเพื่อนร่วมงานจาก Beijing Institute of Technology ได้ตีพิมพ์บทความใน Advanced Materials ที่เสนอเฟส-เทคโนโลยีการพิมพ์หินด้วยลำแสงเลเซอร์แบบมอดูเลตแบบมอดูเลตแบบไม่มี-
ด้วยการวางเฟสปริซึมตามแนวแกนทับด้วยเฟสตะแกรงที่ลุกโชน เลเซอร์เฟมโตวินาทีจะถูกเปลี่ยนรูปร่างให้เป็นลำแสงที่ไม่ใช่การเลี้ยวเบนแบบ-เบสเซล-เสมือนที่มีระยะชัดลึกมากกว่าลำแสงเกาส์เซียนที่โฟกัสแน่นมากกว่าสิบเท่า ซึ่งช่วยลดความจำเป็นในการโฟกัสใหม่ระหว่างการประมวลผลและลดการเคลื่อนโฟกัส การควบคุมการโก่งตัวของลำแสงแบบไดนามิกให้ความแม่นยำถึง 7 นาโนเมตร การประมวลผลทางเคมีในภายหลังของเมตาเซอร์เฟสของ voxel ซึ่งเกิดขึ้นจากระยะ-การเปลี่ยนขอบเขต ทำให้สามารถ-พิมพ์หินโดยไม่ใช้หน้ากากได้
เทคโนโลยีนี้ใช้เพื่อสร้างเมตาเซอร์เฟส Ge₂Sb₂Te₅ ที่ปรับแต่งได้ โดยมีคุณสมบัติทางโครงสร้างที่เล็กถึง 9 นาโนเมตร นอกจากนี้ยังช่วยให้สามารถประดิษฐ์และควบคุมอุปกรณ์โฟโตนิกลอจิกที่ตั้งโปรแกรมได้แบบมัลติฟังก์ชั่น ซึ่งแสดงให้เห็นถึงความสามารถในการประมวลผลที่มีความแม่นยำสูง- แนวทางนี้สร้างกระบวนทัศน์ใหม่สำหรับการประดิษฐ์และการควบคุมเมตาเซอร์เฟสที่ทำงานอยู่ ซึ่งพัฒนาการพัฒนาอุปกรณ์โฟโตนิกรุ่นต่อไป-
เลเซอร์เฟมโตวินาทีแบบไม่-หักเห-การพิมพ์หินด้วยลำแสงผ่านการปรับเฟสสำหรับการผลิตเมตาเซอร์เฟสไดอิเล็กทริก
เฟส-เลเซอร์เฟมโตวินาทีแบบมอดูเลตที่ไม่-การหักเห-การพิมพ์หินลำแสงสำหรับการผลิตเมตาเซอร์เฟสไดอิเล็กทริก
รูปที่ 1 เฟส-การมอดูเลตแบบไม่-การเลี้ยวเบน-การพิมพ์หิน (PNDL) สำหรับการสร้างเมตาพื้นผิวไดอิเล็กทริก
รูปที่ 2 ความเสถียรของการสร้างลำแสงเสมือน-Bessel ที่ไม่ใช่-
รูปที่ 3: การศึกษาความแม่นยำในการแปรรูปของวิธีลำแสง (PNDL) แบบเฟส-แบบมอดูเลตที่ไม่-การเลี้ยวเบน{3}}
รูปที่ 4: ภาพพิมพ์หินของเมตาพื้นผิว Ge₂Sb₂Te₅ (GST) โดยใช้วิธีลำแสง (PNDL) แบบเฟส-มอดูเลตที่ไม่{2}}การเลี้ยวเบน{3}}
รูปที่ 5: อุปกรณ์ Metasurface ที่มีการกำหนดค่าซูเปอร์แลตทิซ GST แบบสี่เหลี่ยม-
การทดลองมุ่งเน้นไปที่เฟส-เปลี่ยนวัสดุ Ge₂Sb₂Te₅ (GST) โดยใช้ประโยชน์จากการเปลี่ยนเฟสที่ผันกลับได้ระหว่างสถานะอสัณฐานและสถานะผลึก ด้วยการใช้เทคโนโลยีการปรับเฟสด้วยเลเซอร์ femtosecond ทำให้สามารถเตรียมและควบคุมโครงสร้างเมตาเซอร์เฟสได้ ด้วยการวางเฟสปริซึมตามแนวแกนและเฟสเกรตติงแบบเลี้ยวเบนผ่านตัวปรับแสงเชิงพื้นที่ เลเซอร์เฟมโตวินาที (515 นาโนเมตร) จะถูกสร้างเป็นลำแสงเสมือน-Bessel ไม่ใช่-การหักเหของแสง ลำแสงนี้กระตุ้นการตกผลึกเฉพาะจุดบนพื้นผิวฟิล์มบางของ GST โดยมุ่งเน้นผ่านวัตถุประสงค์ที่มีรูรับแสงเป็นตัวเลขสูง ต่อจากนั้น การกัดแบบเปียกแบบเลือกสรร (สารละลาย TMAH) จะกำจัดบริเวณที่ไม่ตกผลึก-ออกไป ขณะเดียวกันก็รักษาโครงสร้างที่ตกผลึกไว้ สร้างหน่วยเมตาเซอร์เฟส ด้วยการควบคุมพารามิเตอร์ เช่น พลังงานเลเซอร์และระยะพิทช์พิกเซล ทำให้ได้-รูปแบบที่มีความแม่นยำสูงด้วยเส้นโครงสร้างที่มีความกว้างต่ำเพียง 270 นาโนเมตร และมีช่องว่างขนาดเล็กเพียง 9 นาโนเมตร ซูเปอร์แลตทิซ GST สี่เหลี่ยมคู่-แสดงให้เห็นฟังก์ชันลอจิกเกตหลายฟังก์ชันเมื่อโพลาไรซ์-แสงกระตุ้น
